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更新時間:2020-11-18 08:45????瀏覽:
實驗室通風柜廢氣處理有光催化氧化的辦法
光催化氧化工藝
光催化氧化工藝簡介
光化學和光催化氧化法是目前研究較多的一種氧化技術。光催化反應即在光的作用下進行的化學反應。分子吸收***定波長的電磁輻射后，是分子達到激發態，然后發生化學反應，產生新的物質，或成為熱反應的引發劑。
光催化氧化工藝原理及流程
Ti02作為一種半導體資料其本身的光電***性決議了它可以用作光催化劑。半導體的能帶結構通常是一個電子填充低能量價帶（VB）和一個空的高能量的導帶（CB），導帶和價帶之間的區域被稱為禁帶。
當照耀半導體的光能量等于或***于禁帶寬度時，其價帶電子被激起，跨過禁帶進入導帶，并在價帶中產生相應空穴。電子從價帶激起到導帶，激起后別離的電子和空穴都有一部分進一步進行反響。
光催化氧化工藝的影響要素
研討標明，反響物初始濃度對光催化功率或降解速率有顯著的影響。光催化功率跟著初始濃度添加而動搖，存在顯著的濃度改變點；低濃度方針物的光催化降解功率***于高濃度方針物的光催化降解功率。
濕度對光催化反響的影響尚無一致性定論。關于不同化合物或許不同濃度等實驗條件，存在很***的不同。
光催化氧化工藝***缺點
***點：
處理功率高，運轉費用低，適用于低濃度廣規模的 VOCs***別對芳烴的去除功率高；
缺點：
對高濃度 VOCs 處理功率一般；***要還停留在實驗室階段，缺少實踐使用。